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北京恒奧德儀器儀表有限公司
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恒奧德儀器提拉速度范圍 1~9999ums浸漬提拉鍍膜機核心操作原理
點擊次數(shù):248      更新時間:2025-11-17

恒奧德儀器提拉速度范圍 1~9999ums浸漬提拉鍍膜機核心操作原理

是一種通過控制基材浸漬和提拉過程來制備均勻薄膜的設備,核心原理是利用溶膠-凝膠法實現(xiàn)納米薄膜材料的制備。以下是其操作使用原理和關(guān)鍵工藝流程:

核心操作原理

?浸漬過程?

將基材垂直浸入鍍膜溶液(溶膠)中,利用溶液的粘度、表面張力和重力作用,使溶液均勻附著在基材表面 。 ?

 

?提拉過程?

以可調(diào)速度垂直勻速提拉基材,通過控制提拉速度與溶液粘度的平衡,形成連續(xù)、均勻的濕凝膠膜 。提拉過程中需確保液面無振動,避免膜層不均 。 ?

 

?凝膠化與干燥?

提拉后的濕凝膠膜在空氣中逐漸干燥,轉(zhuǎn)化為干凝膠膜,再通過高溫熱處理得到最終納米薄膜 。 ?

關(guān)鍵工藝參數(shù)

?提拉速度?:直接影響膜厚,速度越快膜越薄 。 ?

?浸漬時間?:控制溶液在基材表面的附著量?

?鍍膜次數(shù)?:多次鍍膜可形成多層膜結(jié)構(gòu) 。 ?

?溶液輪換?:多層型設備支持不同溶液的自動切換 。 ?

設備特點

?高精度驅(qū)動?:采用伺服電機或進口垂直提拉系統(tǒng),確保運行平穩(wěn)、無振動 。 ?

?自動化控制?:參數(shù)(如速度、時間)可編程,支持全自動或手動模式 。 ?

?適用基材?:兼容片狀、塊狀、圓柱狀等多種基材(如硅片、玻璃、金屬等)?

典型應用場景

納米薄膜制備:如氧化物薄膜、光電子材料 。 ?

多層膜結(jié)構(gòu):通過多次浸漬提拉實現(xiàn)復合膜層


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